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スパッタリングターゲット材

三菱マテリアル株式会社

スパッタリングターゲット材
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対象固体(ターゲット材)に加速されたイオンを照射する事により、その構成原子に強い運動量が与えられ、表面の原子・分子が外部に放出されます。その放出された原子等を目的の基板(Si、ガラスなど)に堆積蒸着させる事をスパッタリング蒸着法と呼び、そのスパッタリング法で使用する対象固体である金属などの各種ターゲット材を扱っています。

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エレクトロニクス(材料):非鉄化成品部
電話:03-5200-8101
Fax:03-5200-8132

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