MENU
ENGLISH

PRODUCTS INFORMATION 製品情報 PRODUCTS INFORMATION 製品情報 PRODUCTS INFORMATION 製品情報

スパッタリングターゲット材

三菱マテリアル株式会社

スパッタリングターゲット材
  • スパッタリングターゲット材+
  • スパッタリングターゲット材

対象固体(ターゲット材)に加速されたイオンを照射する事により、その構成原子に強い運動量が与えられ、表面の原子・分子が外部に放出されます。その放出された原子等を目的の基板(Si、ガラスなど)に堆積蒸着させる事をスパッタリング蒸着法と呼び、そのスパッタリング法で使用する対象固体である金属などの各種ターゲット材を扱っています。

お問合せ

エレクトロニクス(材料):工業材料事業部
電話:03-5200-8101
Fax:03-5200-8132

お問合せフォーム

キーワードで探す

検索

メーカー名で探す

製品カテゴリで探す

製品名で探す

検索
TOP